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清洗一類產品得先知此產品是什么和要求及污染物：

現代光學技術里，有的光學零件鍍膜后便成為功能性鍍膜器件，有些光學零件要求為光滑表面或超光滑表面，如大功率激光薄膜器件、激光陀螺上用的高反射鏡等對基底表面粗糙度都要求小于1.5nm，甚至到0.8nm。

有關資料顯示，在K9玻璃表面的劃痕處射入激光，劃傷處的電場強度增加2.3倍，影響了耐激光的性能，激光陀螺高反射鏡要求反射率R≥99.94%方能使用，基底和膜面存在任何疵病都會影響反射率。

由于鍍膜決定該類接受器件的功能，所以在工藝過程中，保持其光潔度和牢固度是至關重要的。

影響光潔度的因素：

薄膜器件表面光潔度是光學基底光潔度和膜層光潔度的綜合反映，要求高的器件是不允許鍍膜出現疵病而降低光潔度的，因此光潔度保持貫穿著鍍膜工藝的全過程。

主要因素：

1、鍍膜前基底清潔時遺留的污染物；

2、鍍膜時真空室對基底和膜面的污染；

3、膜料成膜時出現異常和方法不當等。

清潔處理是保持光潔度的前提。所以，對基底的清理，主要是基底本身的光潔度是由光學冷加工者保證的，鍍膜前必須對污染進行清潔處理。

深圳威固特光學超聲波清洗機：

深圳威固特光學超聲波清洗機的清洗原理是在清洗過程中工件通過超聲波高頻產生的“氣化現象”的沖擊和系統自身不停地作上下運動，增加了液體的摩擦，從而使工件表面的污垢能夠迅速脫落，實現其高清潔度的目的。

深圳威固特光學超聲波清洗機的結構一般都會配置有循環過濾系統、噴淋系統、自動恒溫系統、漂洗系統、拋動系統、缸蓋系統、抽風裝置系統、慢拉脫水系統、烘干槽等組成。

深圳威固特光學超聲波清洗機“慢拉脫水槽”、“熱風烘干槽”是光學零件鍍膜后清潔要求可看的結構——因不能殘留手印、水印、霧氣：

慢拉脫水槽：

結構：

1、純水接人端有水電阻檢測、顯示、報警模塊；

2、槽面設齒狀溢流結構，純水由純水預熱箱進入，由槽體底部進入清洗槽內，槽外貼保溫棉10mm；槽體設“OMRON”數顯溫控系統，檢測槽內工作溫度，溫控范圍：常溫-100℃；

3、頂部有高效離子風，風速可調，背面及右側封閉；

4、正面及左側分別為嵌鋼化玻璃氣缸門，共用踏空開關。正面氣缸門關閉時留有縫隙，可調節大小，將溢出水蒸汽排走，防止再次附著于提出的產品上。

原理：

1、高精度表面清除前面需要有合理的清洗工藝和配置外，更需要良好的脫水效果；

2、工件表面如果有任何垢點或積水點，最后都將導致鍍膜失敗；

3、高純水高溫慢拉脫水是光學行業產品高精度清洗比不可少的工序，有效的形成均勻的熱純水膜，迅速散失表面水份，實現表面高清潔度的目的，為后續烘干燥奠定有利基礎。

熱風烘干槽：

結構：每個烘干槽配置一套氣缸，氣缸帶動鋼化玻璃一起運動，形成密封蓋。

加熱系統結構及加熱方式：

1、外置式不銹鋼加熱箱；

2、內設不銹鋼加熱管，功率：12KW；配OMRON數顯式溫控系統，監控箱內熱風溫度。溫控范圍：常溫：-100℃。

FFU壓風系統結構及功能：

結構：在烘干槽正上方的機架頂部設置一個FFU層流送風單位。由上往下吹風形成負壓風，致使工件加熱后附著物不易粘附。

功能：因慢拉槽液溫較高，如無頂部的FFU壓風，大量的水汽將往上騰，水汽會再次附著于提出的光學產品上，安裝FFU后，可在上方形成局部正壓，大部分水汽從剛面的抽氣口抽走。